000 | 00933nam a2200217Ia 4500 | ||
---|---|---|---|
001 | 28745 | ||
041 | _aspa | ||
245 | 0 | _aProceso de estañado electrolítico | |
260 |
_a[Santiago, Chile] : _b, _c1993 |
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300 | _a1 fotografía : col. ; archivo JPG | ||
520 | _aVista general a la línea de estañado electrolítico, perteneciente a la Compañía Siderúrgica Huachipato S.A. | ||
590 | _aT:\CENDOC\Fotografías\Fotos Ceitelis\Infraestructura Industrial\Mediana web\Estañado Electrolitico-CAP-1986 | ||
610 |
_aMANDANTE.CAP _924358 |
||
650 |
_aPROCESOS INDUSTRIALES _926415 |
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653 | _aFOTOS.INFRAESTRUCTURA INDUSTRIAL | ||
700 |
_aCeitelis, Jack, _efotógrafo _94665 |
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900 |
_aColección Obras _b2013-02-04 _cMateriales Gráficos _dFotografías |
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942 |
_2z _cFOT |
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856 |
_uhttp://catalogo.extension.cchc.cl/documentos/documentos/28745.jpg _yTexto Completo |
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999 |
_c15178 _d15178 |
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008 | 220709s9999 xx 000 0 und d |