000 01097nam a2200253Ia 4500
001 23063
020 _a9789568285500
041 _aspa
082 _a344.83
_bN322 2011
100 _aNavarro Albiña, René,
_eautor
_921089
245 0 _aEl juicio monitorio : en el derecho procesal laboral chileno dogmática y praxis
260 _aSantiago, Chile :
_bEdiciones Jurídicas de Santiago,
_c2011, junio
300 _a193 p.
520 _aEl nuevo sistema procesal laboral chileno contempla el juicio monitorio, concepto que se analiza desde el punto de vista doctrinario e interpretativo, entregando además ejemplos forenses de resoluciones tipo y modelos de escritos (práctica forense) en materia laboral.
590 _aInformativo No. 00247
650 0 _aDerecho del trabajo
_939973
650 0 _aDerecho procesal
_941715
650 0 _aLegislación laboral
_941162
650 0 _aDerecho comparado
_942038
653 _aLEGISLACION
900 _aColección de Monografías
_b2011-10-17
_cMonografías
_dMonografías
942 _2ddc
_cMONO
008 220629s9999 xx 000 0 und d
999 _c10247
_d10247